半導體(tǐ)生産車間空氣淨化解決方案_高(gāo)精密儀器車(chē)間(jiān)空氣過濾器選擇

通(tōng)過用于高(gāo)級半導體(tǐ)制(zhì)造的完整解決方案來(lái)提高(gāo)工藝良率。

在半導體(tǐ)生産車間中，微污染會(huì)帶來(lái)巨大(dà)的問題。捷霖淨化提供了廣泛的解決方案-顆粒預過濾器，HEPA和(hé)ULPA過濾器以及AMC控制(zhì)解決方案-可(kě)以将無塵室中的顆粒物和(hé)分子濃度降低(dī)到顆粒物的ISO 1級水(shuǐ)平和(hé)AMC的亞ppb水(shuǐ)平。

AMC過濾器和(hé)控制(zhì)比無塵室過濾更重要

空氣傳播的分子污染（AMC）對小(xiǎo)尺寸半導體(tǐ)制(zhì)造提出了特殊挑戰。酸，堿，有(yǒu)機物，耐火(huǒ)材料和(hé)摻雜劑的不良化學反應會(huì)影(yǐng)響晶片表面和(hé)工藝設備的光學器件，從而在芯片生(shēng)産過程中産生(shēng)缺陷，并降低(dī)設備和(hé)工具的效率。

在關鍵的潔淨室制(zhì)造過程中，AMC越來(lái)越重要。随着規格要求的提高(gāo)和(hé)設備尺寸的縮小(xiǎo)，過程控制(zhì)面臨巨大(dà)的壓力。晶圓可(kě)以在工廠內(nèi)呆上(shàng)一個(gè)月的時(shí)間(jiān)，在交付最終産品之前要經過數(shù)百個(gè)過程。該工藝鏈中任何微小(xiǎo)的污染影(yǐng)響都可(kě)能對晶圓廠的整體(tǐ)成品率造成嚴重影(yǐng)響。

另一個(gè)挑戰在于更大(dà)尺寸的晶圓的普遍化，這增加了單個(gè)晶圓的成本，并增加了在工具級别對納米顆粒和(hé)AMC保護的需求。此外，EUV和(hé)多(duō)圖案DUV光刻中使用的無缺陷掩模的成本不斷上(shàng)漲，這給設施以及小(xiǎo)型環境（如檢查設備和(hé)掩模庫存機）的污染控制(zhì)系統帶來(lái)了壓力。

保護您的工藝設備和(hé)晶圓免受納米顆粒和(hé)空氣中的分子污染物的侵害

捷霖淨化解決方案在半導體(tǐ)制(zhì)造環境中提供了經過現場(chǎng)和(hé)實驗室驗證的保護，包括光刻，蝕刻，擴散，金屬化，薄膜，離子注入，檢查工具以及标線片或晶圓存儲區(qū)。

工藝工具空氣濾清器

潔淨室空氣過濾器

掃描儀預過濾系統

設施系統的節能高(gāo)效排氣解決方案

廣州捷霖淨化的顆粒物預過濾器系列可(kě)确保在補充空氣處理(lǐ)機組中使用最低(dī)的能量，同時(shí)防止HEPA過濾器堵塞并且不釋放硼。經過多(duō)年的膠粘劑和(hé)介質化學性能的發展，捷霖淨化的HEPA和(hé)ULPA過濾器旨在釋放出盡可(kě)能少(shǎo)的有(yǒu)機污染物（所謂的低(dī)放氣）。用于晶圓切割的排氣系統以及用于通(tōng)用排氣備用系統的氣體(tǐ)洗滌器可(kě)以保護環境免受工藝污染。

無硼合成預濾器

低(dī)能量預過濾器

低(dī)放氣的HEPA和(hé)ULPA過濾器

灰塵收集器和(hé)氣體(tǐ)洗滌器，可(kě)産生(shēng)更清潔的廢氣